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共聚焦光學(xué)測量顯微鏡技術(shù)

簡要描述:共焦顯微鏡系統(tǒng)所展現(xiàn)的放大圖像細(xì)節(jié)要高于常規(guī)的光學(xué)顯微鏡。VT6000共聚焦光學(xué)測量顯微鏡技術(shù)以共聚焦技術(shù)為原理、結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等對器件表面進(jìn)行非接觸式掃描并建立表面3D圖像,在相同物鏡放大的條件下,所展示的圖像形態(tài)細(xì)節(jié)更清晰更微細(xì),橫向分辨率更高。

  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-08-11
  • 訪  問  量:789

詳細(xì)介紹

品牌中圖儀器產(chǎn)地國產(chǎn)
加工定制

共焦顯微鏡系統(tǒng)所展現(xiàn)的放大圖像細(xì)節(jié)要高于常規(guī)的光學(xué)顯微鏡。VT6000共聚焦光學(xué)測量顯微鏡技術(shù)以共聚焦技術(shù)為原理、結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等對器件表面進(jìn)行非接觸式掃描并建立表面3D圖像,在相同物鏡放大的條件下,所展示的圖像形態(tài)細(xì)節(jié)更清晰更微細(xì),橫向分辨率更高。

共聚焦光學(xué)測量顯微鏡技術(shù)

應(yīng)用領(lǐng)域

VT6000共聚焦光學(xué)測量顯微鏡技術(shù)可對各種產(chǎn)品、部件和材料表面的面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、平面度、粗糙度、波紋度、孔隙間隙、臺階高度、彎曲變形情況、加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測量和分析。

應(yīng)用范例:


產(chǎn)品特點

1)結(jié)構(gòu)簡單:儀器整體由一臺輕量化的設(shè)備主機和電腦構(gòu)成,控制單元集成在設(shè)備主機之內(nèi),亦可采用筆記本電腦驅(qū)動,實現(xiàn)了“拎著走"的便攜式設(shè)計;

2)真彩圖像:配備了真彩相機并提供還原的3D真彩圖像,對細(xì)節(jié)的展現(xiàn)纖毫畢現(xiàn);

3)操作便捷:采用全電動化設(shè)計,并可無縫銜接位移軸與掃描軸的切換,圖像視窗和分析視窗同界面的設(shè)計風(fēng)格,實現(xiàn)了所見即所得的快速檢測效果;

4)采用自研的電動鼻輪塔臺,并對軟件防撞設(shè)置與硬件傳感器防撞設(shè)置功能進(jìn)行了優(yōu)化,確保共聚焦顯微鏡在使用高倍物鏡僅不到1mm的工作距離時也能應(yīng)對。

共聚焦光學(xué)測量顯微鏡技術(shù)

功能特點

1、測量模式多樣

單區(qū)域、多區(qū)域、拼接、自動測量等多種測量模式可選擇,適應(yīng)多種現(xiàn)場應(yīng)用環(huán)境;

2、雙重防撞保護功能

Z軸上裝有防撞機械電子傳感器、軟件ZSTOP防撞保護功能,雙重保護;

3、分析功能豐富

3D:表面粗糙度、平整度、孔洞體積、幾何曲面、紋理方向、PSD等分析;

2D:剖面粗糙度、幾何輪廓測量、頻率、孔洞體積、Abbott參數(shù)等分析。


應(yīng)用場景

1、鐳射槽

測量晶圓上激光鐳射槽的深度:半導(dǎo)體后道制造中,在將晶圓分割成一片片的小芯片前,需要對晶圓進(jìn)行橫縱方向的切割,為確保減少切割引發(fā)的崩邊損失,會先采用激光切割機在晶圓表面燒蝕出U型或W型的引導(dǎo)槽,在工藝上需要對引導(dǎo)槽的槽型深寬尺寸進(jìn)行檢測。

共聚焦光學(xué)測量顯微鏡技術(shù)


2、光伏

在太陽能電池制作工程中,柵線的高寬比決定了電池板的遮光損耗及導(dǎo)電能力,直接影響著太陽能電池的性能。共聚焦顯微鏡可以對柵線進(jìn)行快速檢測。此外,太陽能電池制作過程中,制絨作為關(guān)鍵核心工藝,金字塔結(jié)構(gòu)的質(zhì)量影像減反射焰光效果,是光電轉(zhuǎn)換效率的重要決定因素。共聚焦顯微鏡具有納米級別的縱向分辨能力,能夠?qū)﹄姵匕褰q面這種表面反射率低且形貌復(fù)雜的樣品進(jìn)行三維形貌重建。

共聚焦光學(xué)測量顯微鏡技術(shù)

3、其他

共聚焦光學(xué)測量顯微鏡技術(shù)


部分技術(shù)指標(biāo)

型號VT6100


行程范圍

X100mm
Y100mm
Z100mm
外形尺寸
520*380*600mm
儀器重量50kg
測量原理共聚焦光學(xué)系統(tǒng)
顯微物鏡10×;20×;50×;100×
視場范圍120×120 μm~1.2×1.2 mm


高度測量

重復(fù)性(1σ)12nm
顯示分辨率0.5nm


寬度測量

復(fù)性(1σ)40nm
顯示分辨率1nm
XY位移平臺負(fù)載10kg
控制方式電動
Z0軸掃描范圍10mm
物鏡塔臺5孔電動
光源白光LED

如有疑問或需要更多詳細(xì)信息,請隨時聯(lián)系中圖儀器咨詢。

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